1. 真实工业数据虚拟化的器件和典型电路单元：

7nm FinFET；HEMT GaN；28nm & 180nm NMOS&PMOS；LDMOS；TB SOI&FD SOI；NPN&PNP BJT；Diode；Resistor；Capacitor；Varactor；JFET；TFT；SRAM；RO

2. 虚拟化测试仪器

源测试单元：测量器件的IV特性
LCR Meter：测量器件的CV特性

3. 虚拟化测量环境

外界温度：可进行高低温测试
测量时间：用于可靠性测试如HCI，NBTI等
辐照剂量：器件在空间应用的相关特性

1. 完整的14nm工艺线虚拟制造设备操作：氧化炉、CVD设备、PVD设备、刻蚀机、离子注入机、退火设备、外延设备。
2. 完整的14nm工艺线虚拟制造步骤及晶圆微观结构、参数特性、电学特性等：氧化、淀积、光刻、刻蚀、离子注入、扩散、退火、外延。
3. 完成的14nm工艺线典型器件制造步骤及器件微观结构、参数特性、电学特性等：14nm FinFET；GaAs；LDMOS；MOSFET；BJT；DIODE；RESISTOR。

1.工业级先进集成电路制造设备：如300毫米（12英寸）半自动探针台、EUV光刻机等。
2.工业级先进设备使用过程模拟：包括装晶圆、扎探针、工艺线操作、封装线操作等操作过程。
3.先进工艺线全流程模拟：学生犹如置身于一个真实的工艺线中。
4.先进封装线全流程模拟：学生犹如置身于一个真实的快封线中。
5.高端制造设备运行模拟：学生犹如置身于真实的高端半导体制造设备中。